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bruker Dektak Pro臺階儀介紹
BrukerDektakPro布魯克臺階儀DektakPro™以其多功能,使用的便捷性和在薄膜厚度、臺階高度、應力、表面粗糙度和晶圓翹曲測量方面廣受贊許。第十一代Dektak®系統(tǒng),具有4?重復性的表現(xiàn),并提供200毫米平臺選項,在科研以及工業(yè)領域中可以為材料的表面形貌提供各種分析。DektakPro在表面測量方面設立了新的目標,是微電子......
等離子體是部分離化的中性氣體,在等離子體中自由電子與中性分子,原子進行碰撞,通過碰撞電離,進一步得到更多的電子和離子?;陔娮拥哪芰?,可以獲得更豐富的離子,激發(fā)態(tài)高能中性粒子等,同時由于電子吸附在中性氣體表面還可獲得負離子。刻蝕方法在塑料印刷和粘合時作為預處理手段是十分重要的,等離子蝕刻機用于刻蝕塑料表面,通過氧氣可以......
等離子去膠法,去膠氣體為氧氣。其工作原理是將硅片置于真空反應系統(tǒng)中,通入少量氧氣,加1500V高壓,由高頻信號發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號,使石英管內(nèi)形成強的電磁場,使氧氣電離,形成氧離子、活化的氧原子、氧分子和電子等混合物的等離子體的輝光柱?;罨酰ɑ顫姷脑討B(tài)氧)可以迅速地將聚酰亞胺膜氧化成為可揮發(fā)性氣體,被機械泵抽走,這樣......
等離子去膠機是適用于硅基半導體及化合物半導體前后道的等離子體去膠設備,主要用于光刻膠的剝離或灰化,也可用于有機及無機殘留物的去除,去除殘膠以及等離子刻蝕的應用,清洗微電子元件、電路板上鉆孔或銅線框架,提高黏附性等,它的設計緊湊,占地面積小,設備運行穩(wěn)定可靠、易于維護、產(chǎn)能高。它的工藝簡單、效率高,處理后無酸氣廢水等殘留......
等離子刻蝕機,又叫等離子蝕刻機、等離子平面刻蝕機、等離子體刻蝕機、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕,是干法刻蝕中最常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體,從而形成了等離子或離子,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材......
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